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平面刻划光栅简介:

  制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。

平面刻划光栅特征:

  光栅基片材料: 浮法玻璃

  表面光洁度: 4级

  尺寸公差: ± 0.5 mm

  厚度公差: ± 0.5 mm

  效率: 60%~ 80% @闪耀波长

  有效孔径: 90%

  损伤阈值: 350mJ/cm2 @200ns脉冲激光

  40W/cm2 (CW)连续激光

高级选项撤销所有选项

尺寸
刻线数
闪耀波长
闪耀角
色散

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公司介绍

北京欧普特科技有限公司(Golden Way Scientific),注册于1998年,是一家以发展高科技光学类产品为主导的民营公司。


公司自成立至今,致力于光学精密仪器的销售以及光学元器件、机械件与光学镜头的设计、开发与加工生产。目前,我公司拥有自己的光学镀膜中心,光学检测中心和光机装配实验室。


公司位于中关村科技园电子城科技园区,可以为客户提供各类尺寸和精度的球面、平面和柱 面等光学元器件,以及配套的光学机械件、光学镀膜以及光学镜头组装服务。基于长期为国际市场提供传统高精度的光学元器件与机械件的基础,我公司光学产品品质及检验严格遵循国际通用标准。

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